等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)哪些部分組成(PECVD)？很多老師不了解PECVD的組成，下面卓聚科技小編為大家介紹一下。

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD），生長(zhǎng)樣品腔的管徑60-120mm，它是由高溫管式爐、多路高精度流量控制與供氣系統(tǒng)、機(jī)械泵、真空密封及測(cè)量系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)組成，極限真空度可達(dá) 10^-5 torr 。

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）（點(diǎn)擊了解參數(shù)）

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)主要特點(diǎn)：

1，優(yōu)勢(shì)在于各種薄膜材料、低維納米材料等的制備（尤其適用于過(guò)渡金屬二維半導(dǎo)體材料的生長(zhǎng)與原位摻雜，以及多元二維材料的生長(zhǎng)）

2，可選配遠(yuǎn)程等離子射頻發(fā)生系統(tǒng)，可用于各種薄膜材料、低維納米材料等的等離子體輔助生長(zhǎng)、刻蝕加工與材料表面修飾（尤其適用于石墨烯、氮化硼等二維材料的無(wú)催化生長(zhǎng)，缺陷調(diào)控，以及器件制作工藝中的殘膠去除）

3，生長(zhǎng)工藝設(shè)計(jì)先進(jìn)，能滿(mǎn)足襯底無(wú)催化生長(zhǎng)

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